Wydział Technologii i Inżynierii Chemicznej - Chemia (S1)
specjalność: Chemia ogólna i analityka chemiczna
Sylabus przedmiotu Ochrona własności intelektualnej:
Informacje podstawowe
Kierunek studiów | Chemia | ||
---|---|---|---|
Forma studiów | studia stacjonarne | Poziom | pierwszego stopnia |
Tytuł zawodowy absolwenta | inżynier | ||
Obszary studiów | nauk ścisłych, studiów inżynierskich | ||
Profil | ogólnoakademicki | ||
Moduł | — | ||
Przedmiot | Ochrona własności intelektualnej | ||
Specjalność | przedmiot wspólny | ||
Jednostka prowadząca | Dział Wynalazczości i Ochrony Patentowej | ||
Nauczyciel odpowiedzialny | Renata Zawadzka <Renata.Zawadzka@zut.edu.pl> | ||
Inni nauczyciele | Antoni Morawski <Antoni.Morawski@zut.edu.pl> | ||
ECTS (planowane) | 1,0 | ECTS (formy) | 1,0 |
Forma zaliczenia | zaliczenie | Język | polski |
Blok obieralny | — | Grupa obieralna | — |
Wymagania wstępne
KOD | Wymaganie wstępne |
---|---|
W-1 | Brak wymagań wstępnych. |
Cele przedmiotu
KOD | Cel modułu/przedmiotu |
---|---|
C-1 | Zapoznanie studentów z sytemem ochrony własności intelektualnej; Uświadomienie studentom wagi zabezpieczenia swoich praw wyłącznych i poszanowania cudzych praw wyłącznych. Ukształtowanie umiejętności korzystania z dostępnych źródeł informacji patentowej. |
Treści programowe z podziałem na formy zajęć
KOD | Treść programowa | Godziny |
---|---|---|
wykłady | ||
T-W-1 | Informacje ogólne: Przedmioty ochrony własności intelektualnej. Międzynarodowe konwencje i porozumienia w zakresie ochrony własności przemysłowej i ochrony praw autorskich (Konwencja paryska, Konwencja berneńska, Konwencja o utworzeniu Światowej Organizacji Własności Intelektualnej, TRIPS) | 2 |
T-W-2 | Wynalzki i wzory użytkowe: definicje wynalazku, wzoru użytkowego. Przesłanki zdolności patentowej i ochronnej. Zakres ochrony. Procedura krajowa, procedura międzynarodowa PCT, Konwencja o patencie europejskim, | 3 |
T-W-3 | Wzory przemysłowe: definicje, przesłanki ochrony . Procedura krajowa. Wzór przemysłowy wspólnotowy - postepowanie przed OHIM,. Ochrona międzynarodowa w trybie porozumienia haskiego. | 2 |
T-W-4 | Znaki towarowe: definicje, przesłanki zdolności ochronnej, procedura krajowa. Zanak wsopólnotowy - postępowanie przed OHIM. Porozumienie i Protokól madrycki. | 3 |
T-W-5 | Oznaczenia geograficzne | 1 |
T-W-6 | Informacja patentowa i badania patentowe. | 2 |
T-W-7 | Prawo autorskie - definicja utworu - przedmiot prawa, podmiot prawa , rodzaj praw i zakres ochrony | 2 |
15 |
Obciążenie pracą studenta - formy aktywności
KOD | Forma aktywności | Godziny |
---|---|---|
wykłady | ||
A-W-1 | Uczestnictwo w zajęciach | 15 |
A-W-2 | Przygotowanie do zajęć - zapoznanie się z materiałami - | 6 |
A-W-3 | przygotowanie do zaliczenia | 6 |
A-W-4 | konsultacje | 4 |
31 |
Metody nauczania / narzędzia dydaktyczne
KOD | Metoda nauczania / narzędzie dydaktyczne |
---|---|
M-1 | wykład połączony z prezentacją |
Sposoby oceny
KOD | Sposób oceny |
---|---|
S-1 | Ocena formująca: ocena aktywności na zajęciach |
S-2 | Ocena podsumowująca: zaliczenie pisemne na koniec zajęć |
Zamierzone efekty kształcenia - wiedza
Zamierzone efekty kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
---|---|---|---|---|---|---|---|
KCh_1A_C19_W01 wie jak jakie dobra niematerialne podlegają ochronie, jakie są wyłączone spod ochrony; zna źródła prawa, zna definicje przedmiotów własności przemysłowej, zna definicje utworu, wie jak funkcjonuje system ochrony prawem własności przemysłowej i prawem autorskim; zna źródła informacji patentowej. | KCh_1A_W08 | X1A_W08 | — | C-1 | T-W-1, T-W-7, T-W-2, T-W-4, T-W-3, T-W-5, T-W-6 | M-1 | S-2, S-1 |
Zamierzone efekty kształcenia - umiejętności
Zamierzone efekty kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
---|---|---|---|---|---|---|---|
KCh_1A_C19_U01 umie ocenić czy wynik jego pracy intelektualnej podlega ochronie; potrafi wybrać rodzaj ochrony dla danego przedmiotu własności intelektualnej; potrafi zrobić wyszukiwania w bazach patentowych; umie przeprowadzić badanie stanu techniki w dostępnych bazach patentowych; | KCh_1A_U01, KCh_1A_U11 | X1A_U01 | InzA_U03 | C-1 | T-W-1, T-W-7, T-W-2, T-W-4, T-W-3, T-W-5, T-W-6 | M-1 | S-2, S-1 |
Zamierzone efekty kształcenia - inne kompetencje społeczne i personalne
Zamierzone efekty kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów | Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia | Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera | Cel przedmiotu | Treści programowe | Metody nauczania | Sposób oceny |
---|---|---|---|---|---|---|---|
KCh_1A_C19_K01 student będzie wykorzystywał możliwości prawne w celu ochrony własnych wyników pracy twórczej , a także będzie korzystał z cudzych wyników zgodnie z prawem , nie naruszając cudzych praw wyłacznych; student będzie efektywnie wykorzystywał dostępne źródła prawa i źródła informacji patentowej | KCh_1A_K06, KCh_1A_K01 | X1A_K01, X1A_K05, X1A_K07 | InzA_K02 | C-1 | T-W-1, T-W-7, T-W-2, T-W-4, T-W-3, T-W-5, T-W-6 | M-1 | S-2, S-1 |
Kryterium oceny - wiedza
Efekt kształcenia | Ocena | Kryterium oceny |
---|---|---|
KCh_1A_C19_W01 wie jak jakie dobra niematerialne podlegają ochronie, jakie są wyłączone spod ochrony; zna źródła prawa, zna definicje przedmiotów własności przemysłowej, zna definicje utworu, wie jak funkcjonuje system ochrony prawem własności przemysłowej i prawem autorskim; zna źródła informacji patentowej. | 2,0 | opanowanie materiału na poziomie poniżej 55% |
3,0 | opanowanie materiału na poziomie 56% - 64% | |
3,5 | opanowanie materiału na poziomie 65%- 74% | |
4,0 | opanowanie materiału na poziomie 75% - 84% | |
4,5 | opanowanie materiału na poziomie 85%- 94% | |
5,0 | opanowanie materiału na poziomie 95% - 100% |
Kryterium oceny - umiejętności
Efekt kształcenia | Ocena | Kryterium oceny |
---|---|---|
KCh_1A_C19_U01 umie ocenić czy wynik jego pracy intelektualnej podlega ochronie; potrafi wybrać rodzaj ochrony dla danego przedmiotu własności intelektualnej; potrafi zrobić wyszukiwania w bazach patentowych; umie przeprowadzić badanie stanu techniki w dostępnych bazach patentowych; | 2,0 | opanowanie materiału na poziomie 55% |
3,0 | opanowanie materiału na poziomie 56%- 64% | |
3,5 | opanowanie materiału na poziomie 65% - 74% | |
4,0 | opanowanie materiału na poziomie 75% - 84% | |
4,5 | opanowanie materiału na poziomie 85%- 94% | |
5,0 | opanowanie materiału na poziomie 95%- 100% |
Kryterium oceny - inne kompetencje społeczne i personalne
Efekt kształcenia | Ocena | Kryterium oceny |
---|---|---|
KCh_1A_C19_K01 student będzie wykorzystywał możliwości prawne w celu ochrony własnych wyników pracy twórczej , a także będzie korzystał z cudzych wyników zgodnie z prawem , nie naruszając cudzych praw wyłacznych; student będzie efektywnie wykorzystywał dostępne źródła prawa i źródła informacji patentowej | 2,0 | opanowanie materiału na poziomie 55% |
3,0 | opanowanie materiału na poziomie 56%-64% | |
3,5 | opanowanie materiału na poziomie 65% - 74% | |
4,0 | opanowanie materiału na poziomie 75%- 84% | |
4,5 | opanowanie materiału na poziomie 85% - 94% | |
5,0 | opanowanie materiału na poziomie 95% - 100% |
Literatura podstawowa
- Renata Zawadzka, Własność intelektualna , własność przemysłowa, Wydawnictwo Uczelniane Politechniki Szczecińskiej, Szczecin, 2008
Literatura dodatkowa
- ustawa, Ustawa z dnia 30 czerwca 2000 r. Prawo własności przemysłowej, Dz. U. z 2003 r. Nr 119 poz. 1117 z późn. zmianami, 2000
- ustawa, Ustawa z dnia 4 lutego 1994 r. o prawie autorskim i prawach pokrewnych, Dz. U.z 2000 r. Nr 80 poz. 904 z późn. zmianami, 1994
- pod redakcją Andrzeja Pyrży, Poradnik wynalazcy - Procedury zgłoszeniowe w systemie krajowym,europejskim, międzynaraodowym, Krajowa Izba Gospodarcza, Urząd Patentowy RP, Warszawa, 2009
- Michał du Vall, Prawo patentowe, Wolters Kluwer Polska Spólka zo.o., Warszawa, 2008