ZUT - Krajowe Ramy Kwalifikacji / Rok 2013/2014 / Wydział Technologii i Inżynierii Chemicznej / Nanotechnologia (S1) / Sylabus przedmiotu

Wydział Technologii i Inżynierii Chemicznej - Nanotechnologia (S1)

Sylabus przedmiotu Technologia cienkich warstw:

Informacje podstawowe

Kierunek studiów	Nanotechnologia
Forma studiów	studia stacjonarne	Poziom	pierwszego stopnia
Tytuł zawodowy absolwenta	inżynier
Obszary studiów	nauk technicznych, studiów inżynierskich
Profil	ogólnoakademicki
Moduł	—
Przedmiot	Technologia cienkich warstw
Specjalność	Nanomateriały funkcjonalne
Jednostka prowadząca	Instytut Technologii Chemicznej Nieorganicznej i Inżynierii Środowiska
Nauczyciel odpowiedzialny	Walerian Arabczyk <Walerian.Arabczyk@zut.edu.pl>
Inni nauczyciele	Urszula Narkiewicz <Urszula.Narkiewicz@zut.edu.pl>, Rafal Pelka <Rafal.Pelka@zut.edu.pl>
ECTS (planowane)	2,0	ECTS (formy)	2,0
Forma zaliczenia	zaliczenie	Język	polski
Blok obieralny	—	Grupa obieralna	—

Formy dydaktyczne

Forma dydaktyczna	KOD	Semestr	Godziny	ECTS	Waga	Zaliczenie
wykłady	W	6	30	1,0	0,62	zaliczenie
laboratoria	L	6	15	1,0	0,38	zaliczenie

Wymagania wstępne

KOD	Wymaganie wstępne
W-1	Podstawowe wiadomości z fizyki, chemii fizycznej, fizyki ciała stałego, elektrotechniki i elektroniki.

Cele przedmiotu

KOD	Cel modułu/przedmiotu
C-1	Poznanie technik otrzymywania cienkich warstw z materiałów organicznych i nieorganicznych oraz metod pomiaru grubości i analizy morfologii ich powierzchni.
C-2	Zapoznanie studentów z aparaturą pomiarową i preparacyjną stosowaną przy otrzymywaniu cienkich warstw.

Treści programowe z podziałem na formy zajęć

KOD	Treść programowa	Godziny
laboratoria
T-L-1	Analiza spektralna absorpcji i odbicia światła cienkich warstw metalicznych w zakresie grubości od dziesiatek nm do mikrometra.	3
T-L-2	Określenie zależności grubości cienkich warstw polimerowych otrzymywanych metodą spin-coating od lepkości roztworu i prędkości kątowej podłoża.	3
T-L-3	Wyznaczanie grubości warstwy dielektryka (SiO2) na płytkach krzemowych metodą pomiaru pojemności.	3
T-L-4	Proces pasywacji do wytwarzania cienkich warstw na różnych metalach i określenie ich stopnia twardości.	2
T-L-5	Badania cienkich warstw metodą spektroskopii Ramana, spektroskopii elektronowych XPS, AES.	2
T-L-6	Cienkie warstwy otrzymywane metodą foto- i termopolimeryzacji.	2
		15
wykłady
T-W-1	Określenie tematyki wykładów, warunków i sposobów zaliczeń przedmiotu.	1
T-W-2	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Naparowywanie próżniowe: - konwencjonalne termiczne naparowanie próżniowe; - naparowywanie wywołane strumieniem elektronów; - epitaksja wiązką molekularną; - reaktywne naparowywanie.	4
T-W-3	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy wyładowania jarzeniowego: - rozpylanie jonowe, katodowe; - procesy plazmowe.	4
T-W-4	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy gazowej: - osadzanie chemiczne z fazy gazowej; - procesy formowane termicznie (oksydacja, azotowanie i polimeryzacja).	4
T-W-5	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy ciekłej, - procesy elektrolityczne; - powlekanie elektrolityczne i anodyzowanie; - techniki nanoszenia mechanicznego; - rozpylanie natryskowe; - poprzez wylanie z roztworu na stacjonarne podłoże (drop-casting); - poprzez wylanie z roztworu na wirujące podłoże (spin-coating); - poprzez zanurzenie i wyciągnięcie z roztworu (dipping); - metoda Langmuir-Blodgett; - warstwa na warstwę z polielektrolitów poprzez oddziaływanie elektrostatyczne - fotolitografia, miękka litografia, nanolitografia; - metoda drukowania atramentowego (ink-jet printing).	7
T-W-6	Kryteria wyboru odpowiedniej techniki do specyficznych zastosowań: - elementy elektroniczne (półprzewodniki, metale i przewodniki organiczne, dielektryki i materiały izolacyjne) i wyświetlacze (ciekłokrystaliczne, elektroluminescencyjne, fluorescencyjne i elektrochromowe); - warstwy optyczne (antyodbiciowe, interferencyjne, materiały o różnym współczynniku załamania) w szerokim zakresie spektralnym (od UV do podczerwieni); - cienkie filmy do zapisu informacji (optyczne i magnetyczne); - warstwy antystatyczne.	6
T-W-7	Przegląd metod pomiarowych grubości oraz kontroli morfologii powierzchni cienkich warstw.	4
		30

Obciążenie pracą studenta - formy aktywności

KOD	Forma aktywności	Godziny
laboratoria
A-L-1	uczestnictwo w zajęciach	15
A-L-2	przygotowanie do ćwiczeń	8
A-L-3	przygotwanie do zaliczeń	5
A-L-4	zaliczenia	2
		30
wykłady
A-W-1	uczestnictwo w zajęciach	30
		30

Metody nauczania / narzędzia dydaktyczne

KOD	Metoda nauczania / narzędzie dydaktyczne
M-1	wykład informacyjny
M-2	ćwiczenia laboratoryjne
M-3	seminarium

Sposoby oceny

KOD	Sposób oceny
S-1	Ocena formująca: kolokwia
S-2	Ocena formująca: ocena aktywności podczas seminariów i ćwiczeń
S-3	Ocena formująca: ocena ze sprawozdania
S-4	Ocena podsumowująca: kolokwium i elaborat

Zamierzone efekty kształcenia - wiedza

Zamierzone efekty kształcenia	Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia	Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera	Cel przedmiotu	Treści programowe	Metody nauczania	Sposób oceny
Nano_1A_D1-02_W01 Student ma wiedzę z zakresu budowy materii oraz mechanizmów procesów chemicznych i ich wykorzystania przy wytwarzaniu nowoczesnych materiałów w postaci cienkich warstw. Student ma także podstawową wiedzę dotyczącą cyklu życia materiałów oraz zasad funkcjonowania i użytkowania aparatury, urządzeń i systemów wykorzystujących metody technologii chemicznej i fizyki technicznej, w szczególności w ramach nanotechnologii.	Nano_1A_W04, Nano_1A_W10	T1A_W01, T1A_W02, T1A_W06, T1A_W07	InzA_W01, InzA_W02	C-1, C-2	T-W-1, T-W-2, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-6, T-W-7	M-1	S-4

Zamierzone efekty kształcenia - umiejętności

Zamierzone efekty kształcenia	Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia	Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera	Cel przedmiotu	Treści programowe	Metody nauczania	Sposób oceny
Nano_1A_D1-02_U01 Student potrafi rozpoznać zagadnienia fizyczne i chemiczne występujące zarówno w zjawiskach naturalnych jak i procesach technologicznych oraz wykorzystywać eksperymentalne i teoretyczne metody badań fizykochemicznych do formułowania i rozwiązywania zadań inżynierskich w zakresie technologii otrzymywania cienkich warstw. Student potrafi zaprojektować dla zadanych parametrów prosty proces technologiczny otrzymywania cienkich warstw oraz ocenić jego poprawność przy użyciu właściwych metod, technik i urządzeń. Poprzez analizę istniejącego procesu student potrafi zaproponować jego modernizacje, prowadzące do poprawy wskaźników ekonomicznych i środowiskowych.	Nano_1A_U09, Nano_1A_U16, Nano_1A_U17	T1A_U08, T1A_U09, T1A_U15, T1A_U16	InzA_U01, InzA_U02, InzA_U07, InzA_U08	C-1, C-2	T-L-1, T-L-2, T-L-3, T-L-4, T-L-5, T-L-6	M-2, M-3	S-2, S-4, S-3

Zamierzone efekty kształcenia - inne kompetencje społeczne i personalne

Zamierzone efekty kształcenia	Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia	Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera	Cel przedmiotu	Treści programowe	Metody nauczania	Sposób oceny
Nano_1A_D1-02_K01 Student rozumie potrzebę podnoszenia swoich kwalifikacji, rozumie konieczność nieustannej adaptacji swojej wiedzy i umiejętności do zmian zachodzących w technice i nanotechnologii, potrafi organizować proces zdobywania wiedzy przez inne osoby oraz zachęcać je do pracy samodzielnej. Student ma świadomość pozatechnicznych konsekwencji zastosowania nanotechnologi i nanomateriałow ze szczególnym uwzględnieniem wpływu na środowisko i organizm człowieka, rozumie wagę odpowiedzialności za podejmowane decyzje.	Nano_1A_K01, Nano_1A_K02	T1A_K01, T1A_K02	InzA_K01	C-1, C-2	T-W-1, T-W-2, T-W-3, T-W-4, T-W-5, T-W-6, T-W-7	M-1, M-2, M-3	S-2, S-4, S-3

Kryterium oceny - wiedza

Efekt kształcenia	Ocena	Kryterium oceny
Nano_1A_D1-02_W01 Student ma wiedzę z zakresu budowy materii oraz mechanizmów procesów chemicznych i ich wykorzystania przy wytwarzaniu nowoczesnych materiałów w postaci cienkich warstw. Student ma także podstawową wiedzę dotyczącą cyklu życia materiałów oraz zasad funkcjonowania i użytkowania aparatury, urządzeń i systemów wykorzystujących metody technologii chemicznej i fizyki technicznej, w szczególności w ramach nanotechnologii.	2,0
	3,0	Student ma wiedzę na temat metod otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali. Wiedza ta w odniesieniu do treści programowych przedmiotu jest na poziomie 60%.
	3,5
	4,0
	4,5
	5,0

Kryterium oceny - umiejętności

Efekt kształcenia	Ocena	Kryterium oceny
Nano_1A_D1-02_U01 Student potrafi rozpoznać zagadnienia fizyczne i chemiczne występujące zarówno w zjawiskach naturalnych jak i procesach technologicznych oraz wykorzystywać eksperymentalne i teoretyczne metody badań fizykochemicznych do formułowania i rozwiązywania zadań inżynierskich w zakresie technologii otrzymywania cienkich warstw. Student potrafi zaprojektować dla zadanych parametrów prosty proces technologiczny otrzymywania cienkich warstw oraz ocenić jego poprawność przy użyciu właściwych metod, technik i urządzeń. Poprzez analizę istniejącego procesu student potrafi zaproponować jego modernizacje, prowadzące do poprawy wskaźników ekonomicznych i środowiskowych.	2,0
	3,0	Student posiada umiejętności związane z metodami otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali. Umiejętności te w odniesieniu do treści programowych przedmiotu są na poziomie 60%.
	3,5
	4,0
	4,5
	5,0

Kryterium oceny - inne kompetencje społeczne i personalne

Efekt kształcenia	Ocena	Kryterium oceny
Nano_1A_D1-02_K01 Student rozumie potrzebę podnoszenia swoich kwalifikacji, rozumie konieczność nieustannej adaptacji swojej wiedzy i umiejętności do zmian zachodzących w technice i nanotechnologii, potrafi organizować proces zdobywania wiedzy przez inne osoby oraz zachęcać je do pracy samodzielnej. Student ma świadomość pozatechnicznych konsekwencji zastosowania nanotechnologi i nanomateriałow ze szczególnym uwzględnieniem wpływu na środowisko i organizm człowieka, rozumie wagę odpowiedzialności za podejmowane decyzje.	2,0
	3,0	Student ma świadomość pozatechnicznych konsekwencji zastosowania nanotechnologi i nanomateriałow ze szczególnym uwzględnieniem wpływu na środowisko i organizm człowieka, rozumie wagę odpowiedzialności za podejmowane decyzje.
	3,5
	4,0
	4,5
	5,0

Literatura podstawowa

Seshan K. (Ed.), Handbook of Thin-Film Deposition Processes and Techniques, Noyes Publications, New York, 2002
Ulman A., An Introduction to Organic Thin Films, Academic Press, San Diego, 1991
Petty M. C., An Introduction to Langmuir-Blodgett Films, Cambridge Univ. Press, Cambridge, 1996

Literatura dodatkowa

Richardson T. H., Functional Organic and Polymeric Materials, Ed., Wiley, Chichester, 2000
Jones W., Organic Molecular Solids: Properties and Applications, CRC Press Inc., 1997

Treści programowe - laboratoria

KOD	Treść programowa	Godziny
T-L-1	Analiza spektralna absorpcji i odbicia światła cienkich warstw metalicznych w zakresie grubości od dziesiatek nm do mikrometra.	3
T-L-2	Określenie zależności grubości cienkich warstw polimerowych otrzymywanych metodą spin-coating od lepkości roztworu i prędkości kątowej podłoża.	3
T-L-3	Wyznaczanie grubości warstwy dielektryka (SiO2) na płytkach krzemowych metodą pomiaru pojemności.	3
T-L-4	Proces pasywacji do wytwarzania cienkich warstw na różnych metalach i określenie ich stopnia twardości.	2
T-L-5	Badania cienkich warstw metodą spektroskopii Ramana, spektroskopii elektronowych XPS, AES.	2
T-L-6	Cienkie warstwy otrzymywane metodą foto- i termopolimeryzacji.	2
		15

Treści programowe - wykłady

KOD	Treść programowa	Godziny
T-W-1	Określenie tematyki wykładów, warunków i sposobów zaliczeń przedmiotu.	1
T-W-2	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Naparowywanie próżniowe: - konwencjonalne termiczne naparowanie próżniowe; - naparowywanie wywołane strumieniem elektronów; - epitaksja wiązką molekularną; - reaktywne naparowywanie.	4
T-W-3	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy wyładowania jarzeniowego: - rozpylanie jonowe, katodowe; - procesy plazmowe.	4
T-W-4	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy gazowej: - osadzanie chemiczne z fazy gazowej; - procesy formowane termicznie (oksydacja, azotowanie i polimeryzacja).	4
T-W-5	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy ciekłej, - procesy elektrolityczne; - powlekanie elektrolityczne i anodyzowanie; - techniki nanoszenia mechanicznego; - rozpylanie natryskowe; - poprzez wylanie z roztworu na stacjonarne podłoże (drop-casting); - poprzez wylanie z roztworu na wirujące podłoże (spin-coating); - poprzez zanurzenie i wyciągnięcie z roztworu (dipping); - metoda Langmuir-Blodgett; - warstwa na warstwę z polielektrolitów poprzez oddziaływanie elektrostatyczne - fotolitografia, miękka litografia, nanolitografia; - metoda drukowania atramentowego (ink-jet printing).	7
T-W-6	Kryteria wyboru odpowiedniej techniki do specyficznych zastosowań: - elementy elektroniczne (półprzewodniki, metale i przewodniki organiczne, dielektryki i materiały izolacyjne) i wyświetlacze (ciekłokrystaliczne, elektroluminescencyjne, fluorescencyjne i elektrochromowe); - warstwy optyczne (antyodbiciowe, interferencyjne, materiały o różnym współczynniku załamania) w szerokim zakresie spektralnym (od UV do podczerwieni); - cienkie filmy do zapisu informacji (optyczne i magnetyczne); - warstwy antystatyczne.	6
T-W-7	Przegląd metod pomiarowych grubości oraz kontroli morfologii powierzchni cienkich warstw.	4
		30

Formy aktywności - laboratoria

KOD	Forma aktywności	Godziny
A-L-1	uczestnictwo w zajęciach	15
A-L-2	przygotowanie do ćwiczeń	8
A-L-3	przygotwanie do zaliczeń	5
A-L-4	zaliczenia	2
		30

(*) 1 punkt ECTS, odpowiada około 30 godzinom aktywności studenta

Formy aktywności - wykłady

KOD	Forma aktywności	Godziny
A-W-1	uczestnictwo w zajęciach	30
		30

(*) 1 punkt ECTS, odpowiada około 30 godzinom aktywności studenta

Pole	KOD	Znaczenie kodu
Zamierzone efekty kształcenia	Nano_1A_D1-02_W01	Student ma wiedzę z zakresu budowy materii oraz mechanizmów procesów chemicznych i ich wykorzystania przy wytwarzaniu nowoczesnych materiałów w postaci cienkich warstw. Student ma także podstawową wiedzę dotyczącą cyklu życia materiałów oraz zasad funkcjonowania i użytkowania aparatury, urządzeń i systemów wykorzystujących metody technologii chemicznej i fizyki technicznej, w szczególności w ramach nanotechnologii.
Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Nano_1A_W04	ma wiedzę z zakresu budowy materii, mechanizmów procesów chemicznych i ich aplikacji w nanotechnologii wytwarzania nowoczesnych materiałów
Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Nano_1A_W10	ma podstawową wiedzę o cyklu życia materiałów oraz na temat zasad funkcjonowania i eksploatacji aparatury, urządzeń i systemów wykorzystujących metody technologii chemicznej i fizyki technicznej, szczególnie w aspekcie wytwarzania nanomateriałów
Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia	T1A_W01	ma wiedzę z zakresu matematyki, fizyki, chemii i innych obszarów właściwych dla studiowanego kierunku studiów przydatną do formułowania i rozwiązywania prostych zadań z zakresu studiowanego kierunku studiów
	T1A_W02	ma podstawową wiedzę w zakresie kierunków studiów powiązanych ze studiowanym kierunkiem studiów
	T1A_W06	ma podstawową wiedzę o cyklu życia urządzeń, obiektów i systemów technicznych
	T1A_W07	zna podstawowe metody, techniki, narzędzia i materiały stosowane przy rozwiązywaniu prostych zadań inżynierskich z zakresu studiowanego kierunku studiów
Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera	InzA_W01	ma podstawową wiedzę o cyklu życia urządzeń, obiektów i systemów technicznych
	InzA_W02	zna podstawowe metody, techniki, narzędzia i materiały stosowane przy rozwiązywaniu prostych zadań inżynierskich z zakresu studiowanego kierunku studiów
Cel przedmiotu	C-1	Poznanie technik otrzymywania cienkich warstw z materiałów organicznych i nieorganicznych oraz metod pomiaru grubości i analizy morfologii ich powierzchni.
Cel przedmiotu	C-2	Zapoznanie studentów z aparaturą pomiarową i preparacyjną stosowaną przy otrzymywaniu cienkich warstw.
Treści programowe	T-W-1	Określenie tematyki wykładów, warunków i sposobów zaliczeń przedmiotu.
	T-W-2	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Naparowywanie próżniowe: - konwencjonalne termiczne naparowanie próżniowe; - naparowywanie wywołane strumieniem elektronów; - epitaksja wiązką molekularną; - reaktywne naparowywanie.
	T-W-3	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy wyładowania jarzeniowego: - rozpylanie jonowe, katodowe; - procesy plazmowe.
	T-W-4	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy gazowej: - osadzanie chemiczne z fazy gazowej; - procesy formowane termicznie (oksydacja, azotowanie i polimeryzacja).
	T-W-5	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy ciekłej, - procesy elektrolityczne; - powlekanie elektrolityczne i anodyzowanie; - techniki nanoszenia mechanicznego; - rozpylanie natryskowe; - poprzez wylanie z roztworu na stacjonarne podłoże (drop-casting); - poprzez wylanie z roztworu na wirujące podłoże (spin-coating); - poprzez zanurzenie i wyciągnięcie z roztworu (dipping); - metoda Langmuir-Blodgett; - warstwa na warstwę z polielektrolitów poprzez oddziaływanie elektrostatyczne - fotolitografia, miękka litografia, nanolitografia; - metoda drukowania atramentowego (ink-jet printing).
	T-W-6	Kryteria wyboru odpowiedniej techniki do specyficznych zastosowań: - elementy elektroniczne (półprzewodniki, metale i przewodniki organiczne, dielektryki i materiały izolacyjne) i wyświetlacze (ciekłokrystaliczne, elektroluminescencyjne, fluorescencyjne i elektrochromowe); - warstwy optyczne (antyodbiciowe, interferencyjne, materiały o różnym współczynniku załamania) w szerokim zakresie spektralnym (od UV do podczerwieni); - cienkie filmy do zapisu informacji (optyczne i magnetyczne); - warstwy antystatyczne.
	T-W-7	Przegląd metod pomiarowych grubości oraz kontroli morfologii powierzchni cienkich warstw.
Metody nauczania	M-1	wykład informacyjny
Sposób oceny	S-4	Ocena podsumowująca: kolokwium i elaborat
Kryteria oceny	Ocena	Kryterium oceny
	2,0
	3,0	Student ma wiedzę na temat metod otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali. Wiedza ta w odniesieniu do treści programowych przedmiotu jest na poziomie 60%.
	3,5
	4,0
	4,5
	5,0

Pole	KOD	Znaczenie kodu
Zamierzone efekty kształcenia	Nano_1A_D1-02_U01	Student potrafi rozpoznać zagadnienia fizyczne i chemiczne występujące zarówno w zjawiskach naturalnych jak i procesach technologicznych oraz wykorzystywać eksperymentalne i teoretyczne metody badań fizykochemicznych do formułowania i rozwiązywania zadań inżynierskich w zakresie technologii otrzymywania cienkich warstw. Student potrafi zaprojektować dla zadanych parametrów prosty proces technologiczny otrzymywania cienkich warstw oraz ocenić jego poprawność przy użyciu właściwych metod, technik i urządzeń. Poprzez analizę istniejącego procesu student potrafi zaproponować jego modernizacje, prowadzące do poprawy wskaźników ekonomicznych i środowiskowych.
Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Nano_1A_U09	potrafi identyfikować problematykę fizyczną i chemiczną w zjawiskach naturalnych i procesach technologicznych oraz wykorzystywać metodykę badań fizykochemicznych (wyniki eksperymentalne, symulacje) do formułowania i rozwiązywania zadań inżynierskich
	Nano_1A_U16	na podstawie analizy istniejącego procesu potrafi zaproponować jego modernizacje, prowadzące do poprawy wskaźników ekonomicznych oraz środowiskowych
	Nano_1A_U17	potrafi zaprojektować prosty proces technologiczny, zgodnie z zadaną specyfiką, charakterystyczny dla ukończonej specjalności oraz ocenić jego poprawność przy użyciu właściwych metod, technik i urządzeń
Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia	T1A_U08	potrafi planować i przeprowadzać eksperymenty, w tym pomiary i symulacje komputerowe, interpretować uzyskane wyniki i wyciągać wnioski
	T1A_U09	potrafi wykorzystać do formułowania i rozwiązywania zadań inżynierskich metody analityczne, symulacyjne oraz eksperymentalne
	T1A_U15	potrafi ocenić przydatność rutynowych metod i narzędzi służących do rozwiązania prostego zadania inżynierskiego o charakterze praktycznym, charakterystycznego dla studiowanego kierunku studiów oraz wybrać i zastosować właściwą metodę i narzędzia
	T1A_U16	potrafi - zgodnie z zadaną specyfikacją - zaprojektować oraz zrealizować proste urządzenie, obiekt, system lub proces, typowe dla studiowanego kierunku studiów, używając właściwych metod, technik i narzędzi
Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera	InzA_U01	potrafi planować i przeprowadzać eksperymenty, w tym pomiary i symulacje komputerowe, interpretować uzyskane wyniki i wyciągać wnioski
	InzA_U02	potrafi wykorzystać do formułowania i rozwiązywania zadań inżynierskich metody analityczne, symulacyjne oraz eksperymentalne
	InzA_U07	potrafi ocenić przydatność rutynowych metod i narzędzi służących do rozwiązania prostego zadania inżynierskiego o charakterze praktycznym, charakterystycznego dla studiowanego kierunku studiów oraz wybrać i zastosować właściwą metodę i narzędzia
	InzA_U08	potrafi - zgodnie z zadaną specyfikacją - zaprojektować proste urządzenie, obiekt, system lub proces, typowe dla studiowanego kierunku studiów, używając właściwych metod, technik i narzędzi
Cel przedmiotu	C-1	Poznanie technik otrzymywania cienkich warstw z materiałów organicznych i nieorganicznych oraz metod pomiaru grubości i analizy morfologii ich powierzchni.
Cel przedmiotu	C-2	Zapoznanie studentów z aparaturą pomiarową i preparacyjną stosowaną przy otrzymywaniu cienkich warstw.
Treści programowe	T-L-1	Analiza spektralna absorpcji i odbicia światła cienkich warstw metalicznych w zakresie grubości od dziesiatek nm do mikrometra.
	T-L-2	Określenie zależności grubości cienkich warstw polimerowych otrzymywanych metodą spin-coating od lepkości roztworu i prędkości kątowej podłoża.
	T-L-3	Wyznaczanie grubości warstwy dielektryka (SiO2) na płytkach krzemowych metodą pomiaru pojemności.
	T-L-4	Proces pasywacji do wytwarzania cienkich warstw na różnych metalach i określenie ich stopnia twardości.
	T-L-5	Badania cienkich warstw metodą spektroskopii Ramana, spektroskopii elektronowych XPS, AES.
	T-L-6	Cienkie warstwy otrzymywane metodą foto- i termopolimeryzacji.
Metody nauczania	M-2	ćwiczenia laboratoryjne
Metody nauczania	M-3	seminarium
Sposób oceny	S-2	Ocena formująca: ocena aktywności podczas seminariów i ćwiczeń
	S-4	Ocena podsumowująca: kolokwium i elaborat
	S-3	Ocena formująca: ocena ze sprawozdania
Kryteria oceny	Ocena	Kryterium oceny
	2,0
	3,0	Student posiada umiejętności związane z metodami otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali. Umiejętności te w odniesieniu do treści programowych przedmiotu są na poziomie 60%.
	3,5
	4,0
	4,5
	5,0

Pole	KOD	Znaczenie kodu
Zamierzone efekty kształcenia	Nano_1A_D1-02_K01	Student rozumie potrzebę podnoszenia swoich kwalifikacji, rozumie konieczność nieustannej adaptacji swojej wiedzy i umiejętności do zmian zachodzących w technice i nanotechnologii, potrafi organizować proces zdobywania wiedzy przez inne osoby oraz zachęcać je do pracy samodzielnej. Student ma świadomość pozatechnicznych konsekwencji zastosowania nanotechnologi i nanomateriałow ze szczególnym uwzględnieniem wpływu na środowisko i organizm człowieka, rozumie wagę odpowiedzialności za podejmowane decyzje.
Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Nano_1A_K01	rozumie potrzebę podnoszenia swoich kwalifikacji, rozumie konieczność nieustannej adaptacji swojej wiedzy i umiejętności do zmian zachodzących w technice i nanotechnologii, potrafi organizować proces zdobywania wiedzy przez inne osoby oraz zachęcać je do pracy samodzielnej
Odniesienie do efektów kształcenia dla kierunku studiów	Nano_1A_K02	ma świadomość pozatechnicznych konsekwencji zastosowania nanotechnologi i nanomateriałow ze szczególnym uwzględnieniem wpływu na środowisko i organizm człowieka, rozumie wagę odpowiedzialności za podejmowane decyzje
Odniesienie do efektów zdefiniowanych dla obszaru kształcenia	T1A_K01	rozumie potrzebę uczenia się przez całe życie; potrafi inspirować i organizować proces uczenia się innych osób
	T1A_K02	ma świadomość ważności i zrozumienie pozatechnicznych aspektów i skutków działalności inżynierskiej, w tym jej wpływu na środowisko, i związanej z tym odpowiedzialności za podejmowane decyzje
Odniesienie do efektów kształcenia prowadzących do uzyskania tytułu zawodowego inżyniera	InzA_K01	ma świadomość ważności i rozumie pozatechniczne aspekty i skutki działalności inżynierskiej, w tym jej wpływu na środowisko, i związanej z tym odpowiedzialności za podejmowane decyzje
Cel przedmiotu	C-1	Poznanie technik otrzymywania cienkich warstw z materiałów organicznych i nieorganicznych oraz metod pomiaru grubości i analizy morfologii ich powierzchni.
Cel przedmiotu	C-2	Zapoznanie studentów z aparaturą pomiarową i preparacyjną stosowaną przy otrzymywaniu cienkich warstw.
Treści programowe	T-W-1	Określenie tematyki wykładów, warunków i sposobów zaliczeń przedmiotu.
	T-W-2	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Naparowywanie próżniowe: - konwencjonalne termiczne naparowanie próżniowe; - naparowywanie wywołane strumieniem elektronów; - epitaksja wiązką molekularną; - reaktywne naparowywanie.
	T-W-3	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy wyładowania jarzeniowego: - rozpylanie jonowe, katodowe; - procesy plazmowe.
	T-W-4	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy gazowej: - osadzanie chemiczne z fazy gazowej; - procesy formowane termicznie (oksydacja, azotowanie i polimeryzacja).
	T-W-5	Metody otrzymywania cienkich warstw z materiałów nieorganicznych, organicznych i metali: Procesy chemiczne z fazy ciekłej, - procesy elektrolityczne; - powlekanie elektrolityczne i anodyzowanie; - techniki nanoszenia mechanicznego; - rozpylanie natryskowe; - poprzez wylanie z roztworu na stacjonarne podłoże (drop-casting); - poprzez wylanie z roztworu na wirujące podłoże (spin-coating); - poprzez zanurzenie i wyciągnięcie z roztworu (dipping); - metoda Langmuir-Blodgett; - warstwa na warstwę z polielektrolitów poprzez oddziaływanie elektrostatyczne - fotolitografia, miękka litografia, nanolitografia; - metoda drukowania atramentowego (ink-jet printing).
	T-W-6	Kryteria wyboru odpowiedniej techniki do specyficznych zastosowań: - elementy elektroniczne (półprzewodniki, metale i przewodniki organiczne, dielektryki i materiały izolacyjne) i wyświetlacze (ciekłokrystaliczne, elektroluminescencyjne, fluorescencyjne i elektrochromowe); - warstwy optyczne (antyodbiciowe, interferencyjne, materiały o różnym współczynniku załamania) w szerokim zakresie spektralnym (od UV do podczerwieni); - cienkie filmy do zapisu informacji (optyczne i magnetyczne); - warstwy antystatyczne.
	T-W-7	Przegląd metod pomiarowych grubości oraz kontroli morfologii powierzchni cienkich warstw.
Metody nauczania	M-1	wykład informacyjny
	M-2	ćwiczenia laboratoryjne
	M-3	seminarium
Sposób oceny	S-2	Ocena formująca: ocena aktywności podczas seminariów i ćwiczeń
	S-4	Ocena podsumowująca: kolokwium i elaborat
	S-3	Ocena formująca: ocena ze sprawozdania
Kryteria oceny	Ocena	Kryterium oceny
	2,0
	3,0	Student ma świadomość pozatechnicznych konsekwencji zastosowania nanotechnologi i nanomateriałow ze szczególnym uwzględnieniem wpływu na środowisko i organizm człowieka, rozumie wagę odpowiedzialności za podejmowane decyzje.
	3,5
	4,0
	4,5
	5,0